1.四層手術部整個層面的建筑裝修裝飾改造工程。

2.四層手術部的凈化空調系統的設備采購。制作及安裝工程。

3.四層手術部凈化空調及中央空調冷熱源所需及配套系統管道設備和材料的采購。安裝由承包方完成。

4.四層手術部區域的氧氣`負壓吸引。壓縮空氣。和廢氣排放管道及終端的采購和安裝工程式。

5.四層手術部及設備層的總配電柜。電線。橋架。照明，插座，開關等全套電氣工程（其電源進線由院方從低壓配電柜引來兩路獨立電源，雙路切換功能由中標方完成）。

6.四層手術部區域，辦公輔房區域的呼叫系統設施采購及安裝工程。

7.四層手術部區域的背景音樂及公共廣播系統設施采購及安裝工程。

8.四層手術部區域的網絡系統的設計，采購及安裝工程。

9.四層手術部手術室內氣體吊頂的設計，采購及安裝工程。

10.四層手術部手術室部分消防設施的安裝

       凡是房建類設計規劃，無論是哪類用房裝修，都是在確保一系列基本配置的基礎上進行規劃及設計。半導體行業潔凈車間也不例外，涉及此類范疇的，也并非只是單純地對生產車間空間面積、墻頂地的涂裝和管道鋪設工程進行設計。那么半導體行業潔凈室是如何規劃設計的呢？

       一、信息的對接工作

       1、對接建筑基礎資料信息

包括了解廠房各樓層尺寸面積、層高、有無承重柱、出入口位置等信息，同時還需要了解廠房現有潔凈等級。

       2、對接生產線及生產工藝信息

       了解生產設備、作業工作臺、生產流水線的尺寸大小及擺放位置；生產原料、半成品及成品的擺放位置與占地面積需要；明確人貨通道、工作面積、車間內所需操作人員數量等需求。

       3、明確企業后期生產規劃信息及預算費用信息

      提前了解企業研發生產的規劃，便于提前做好準備，預留合適的后期升級改造空間；明確企業裝修設計預算，在合理范圍內進行設計規劃。

       二、設計規劃工作

       一般來說，半導體潔凈室對潔凈等級要求都較高，施工難度也隨之增加。需要依據室內溫濕度、產線所需潔凈度、壓差排風、照度風量等數據進行合理設計。如靜電對半導體行業產品影響較大，會降低良品率，而干燥的環境容易產生靜電，因此半導體行業的潔凈室內需要對溫濕度合理控制，通常將溫度設置在22℃左右，相對濕度控制在50%-60%這樣的范圍內，能有效防止靜電產生，同時提升工作人員適宜度。

廢氣處理設備，主要是運用不同工藝技術，通過回收或去除減少排放尾氣的有害成分，達到保護環境、凈化空氣的一種環保設備。

       處理原理：

       稀釋擴散法

       凈化工程原理:將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣，或用無臭空氣稀釋，降低惡臭物質濃度以減少臭味。適用范圍:適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優點:費用低、設備簡單。缺點:易受氣象條件限制，惡臭物質依然存在。

       1、水吸收法

       凈化工程原理:利用臭氣中某些物質易溶于水的特性，使臭氣成分直接與水接觸，從而溶解于水達到脫臭目的。適用范圍:水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優點:工藝簡單，管理方便，設備運轉費用低 產生二次污染，需對洗滌液進行處理。缺點:凈化效率低，應與其他技術聯合使用，對硫醇，脂肪酸等處理效果差。

       2、曝氣式活性污泥脫臭法

       凈化工程原理:將惡臭物質以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中，通過懸浮生長的微生物降解惡臭物質 適用范圍廣。適用范圍:截至2013年，日本已用于糞便處理場、污水處理廠的臭氣處理。優點:活性污泥經過馴化后，對不超過極限負荷量的惡臭成分，去除率可達99.5%以上。缺點:受到曝氣強度的限制，該法的應用還有一定局限。

       3、多介質催化氧化工藝

       凈化工程原理:反應塔內裝填的固態填料，填料內部復配多介質催化劑。當惡臭氣體在引風機的作用下穿過填料層，與通過噴嘴呈發散霧狀噴出的液相復配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍:適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對疏水性污染物質有很好的去除率。優點:占地小，投資低，運行成本低;管理方便，即開即用。缺點:耐沖擊負荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。